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干蚀刻技术资料-气蚀刻-蚀刻玻璃-实时蚀刻-蚀刻贝壳-能选择性蚀刻类资料（198元/全套）选购时请记住本套资料（光盘）售价：198元；资料（光盘）编号：F150850
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《干蚀刻资料》包括专利技术全文资料119份。
0001)掩膜形成方法其形成用功能层、干蚀刻法及信息记录媒体制法
0011)金属蚀刻装饰板及其制造方法
0012)蚀刻残渣除去方法以及使用它的半导体器件的制造方法
0013)可去除蚀刻制程后的残留聚合物及降低氧化物损失的方法
0014)在基底蚀刻制程中的干涉终点侦测
0015)一种去除晶片表面上蚀刻残留物的方法
0016)敏射线树脂组合物及其改进其防干性蚀刻性能的方法
0017)光蚀刻用清洗液及使用其的清洗方法
0018)用于衬底的各向异性蚀刻的非晶蚀刻停止
0019)在金属层蚀刻后移除光阻的方法
0020)镂空蚀刻揭启检验模压全息防伪标识及其生产工艺
0021)PDP滤光器以及使用完全蚀刻的电磁干扰膜制造该滤光器的方法
0022)光致抗蚀剂蚀刻中前边界点技术
0023)硅蚀刻和腔室清洁工艺的集成
0024)激光蚀刻装置
0025)一种错位双面蚀刻的刨片加工方法
0026)金属蚀刻地图
0027)利用化学干蚀刻形成圆弧化边角的方法
0028)干式洁净介电层开口蚀刻反应室的方法
0029)高高宽比开口的蚀刻方法
0030)多层膜的干湿结合蚀刻方法
0031)蚀刻系统及其纯水添加装置
0032)具有直立式洗净器的干蚀刻机台
0033)蚀刻量检测方法、蚀刻方法和蚀刻装置
0034)改善蚀刻多晶硅的均匀性和减少其蚀刻速率变化的方法
0035)一种半导体晶圆蚀刻灰化后的清洗方法
0036)铜及铜合金表面精细蚀刻技术
0037)蚀刻介电层形成接触窗和介层窗的方法以及镶嵌工艺
0038)旋转蚀刻的工序管理方法及旋转蚀刻装置
0039)改进蚀刻率均一性的设备和方法
0040)镂空蚀刻揭启检验模压全息防伪标识
0041)生产核径迹膜的连续蚀刻装置
0042)中国丝绸蚀刻方法
0043)利用蚀刻废液制备饲料级蛋氨酸铜螯合物的方法
0044)金属薄膜干蚀刻的后处理方法及蚀刻与去光阻的整合系统
0067)干式蚀刻方法、干式蚀刻气体及全氟(*)干蚀刻方法、微细结构形成方法、模具及其制造方法
0077)用于化学干式蚀刻系统的系统和方法
0078)用线路板蚀刻废液生产氯化铵的方法
0079)深沟渠的制备方法及其蚀刻混合液
0080)相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅能选择性蚀刻掺杂二氧化硅的蚀刻剂,其使用方法和形成的结构
0081)铝及铝合金表面精细蚀刻技术
0082)去除焊垫窗口蚀刻后残留聚合物的方法
0083)氮化镓表面低损伤蚀刻
0084)利用印刷板蚀刻废液制备氯化亚铜的方法
0085)TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置及其蚀刻方法
0086)单晶硅太阳能电池化学蚀刻、清洗、干燥的方法和它的一体化处理机
0087)用电脑刻绘光固化技术蚀刻贝壳海螺的方法
0088)一种晶片干蚀刻的装置及控制方法
0089)在原位干涉量测终点侦测及非干涉量测终点监控中执行氮化物垫片蚀刻工艺的方法与设备
0090)干式蚀刻装置及干式蚀刻方法
0091)金属蚀刻板条装饰门
0092)干蚀刻后的洗涤液组合物及半导体装置的制造方法
0093)具有改进型抗蚀剂及/或蚀刻轮廓特征的介电膜用蚀刻方法
0094)用于制造平板显示装置的蚀刻设备及使用其的制造方法
0095)通过添加碳降低氮化硅蚀刻速率的方法
0096)一种用于制造半导体组件的干式蚀刻方法
0097)采用整合测量以增进介电质蚀刻效率的方法和设备
0098)干式蚀刻方法、磁记录介质的制造方法和磁记录介质
0099)用于确定实时蚀刻速率的浅角干涉工艺及装置
0100)用于干蚀刻反应室的压力计感应器的缓冲器
0101)用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的方法
0102)一种不锈钢快速深度电化学蚀刻方法
0103)用于显微机械加工晶体材料的蚀刻方法以及由此方法制备的器件
0104)用以避免条纹现象的蚀刻方法
0105)硅的各向异性湿式蚀刻
0106)金属蚀刻装饰条及其制造方法
0107)低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法
0108)便携式XeF2蚀刻室及其使用方法
0109)一种双面微影蚀刻新制程及其保护层的组成
0110)使用蚀刻阻挡区的干法蚀刻系统的系统和方法
0111)湿蚀刻设备
0112)干式蚀刻器中残留气体的去除装置及去除方法
0113)在介电层中蚀刻开口的方法
0114)空间相锁定扫描电子束蚀刻方法
0115)彩色滤光片的蚀刻方法与其制作方法
0116)金属披覆板的电浆蚀刻进度监测结构
0117)金属氧化物/光致抗蚀膜积层体的干蚀刻方法
0118)化学蚀刻形成盲孔的多层电路板制法
0119)干蚀刻方法、微细结构形成方法、模具及其制造方法
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