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《窗蚀刻资料》包括专利技术全文资料14份。
0001)蚀刻介电层形成接触窗和介层窗的方法以及镶嵌工艺
0002)去除焊垫窗口蚀刻后残留聚合物的方法
0003)蚀刻方法及接触窗开口的形成方法
0004)以两阶段蚀刻方式在半导体基材上形成熔丝窗的方法
0005)一种在挠性印制电路板聚酰亚胺基材上开窗口的方法及其刻蚀液
0006)防止介层窗过度蚀刻的方法及其构造
0007)溅射蚀刻金属层所用窗口保护器
0008)控制接触窗微距的蚀刻方法
0009)形成接触窗开口的蚀刻方法
0010)检测接触窗蚀刻结果的方法
(1008591(*)接触窗及接触窗蚀刻方法
(1008591(*)用以监控双载子晶体管射极窗蚀刻制程的方法
(1008591(*)不需要poly2的用于掩埋条形窗形成的凹陷环状蚀刻
(1008591(*)在同一蚀刻室进行介层窗蚀刻的方法
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